Оборудование

 

Оборудование лаборатории пленочных технологий позволяет провести полный цикл научно-исследовательских работ: от изучения ростовых процессов пленок до получения наноструктур и полной диагностики структурных, физико-химических,  магнитных и электрических свойств.

 

Оборудование можно разделить на следующие группы: 

  • Вакуумные установки

  • Электронная и фотолитография

  • Сканирующая зондовая микроскопия

  • Магнитометрия

  • Магнитотранспортные измерения 

  • Серверное оборудование 

  • Вспомогательное оборудование

Доступ к оборудованию для проведения сторонних исследований рассматривается в каждом конкретном случае с учетом текущей загрузки оборудования и планов научно-исследовательских работ. 

 

Запросы о доступе к установкам следует отправлять на spinnanolab@gmail.com  от руководителей исследовательских групп или проектов.

Список оборудования

КОНТАКТНАЯ ИНФОРМАЦИЯ

Кафедра химии
МГУ им. Ломоносова

 

Адрес:

Ул. Арбат, 1а

Москва, 119019

Россия

 

info@mysite.ru

Телефоны:

Тел. +7 (945) 000-00-00

Факс +7 (945) 000-00-00

 

UHV analitic Omicron_edited.jpg

Сверхвысоковакуумная установка молекулярно лучевой эпитаксии «Omicron»

Универсальный сверхвысоковакуумный комплекс, состоящий из двух СВВ установок,  предназначен для получения наноструктур на основе металлов и полупроводников с помощью молекулярно-лучевых испарителей, эффузионных ячеек,  а также их исследования методами АСМ и туннельной микроскопии, спектроскопии характеристических потерь энергии электронами, дифракции быстрых электронов.

Сверхвысоковакуумная напылительная система с магнетронными источниками

Система предназначена для получения многокомпонентных наноструктур из проводящих и непроводящих материалов методом магнетронного  осаждения (2 DC + 2 RF магнетрона, вращение подложек, нагрев подложек). 

Высоковакуумная установка SNC-500

Высоковакуумная система для нанесения алмазоподобных покрытий (DLC) методами Laser Arc & Filtred Arc PVD.

Установка возможно модифицировать покрытие путем добавление газов в процессе осаждения, например, ацетилен. Можно добавлять промежуточные слои, например, Ti, Al, TiN, TiAlN, тем самым меняя свойства покрытия.

Установка реактивного ионного
травления Plasma Lab 80 plus

Малогабаритная система для реактивного ионного травления металлов, диэлектриков и полупроводников. 

Raith litography.jpg

Электронный литограф E-Line, Raith

Система электронной литографии E-Line Raith.  Разрешающая способность электронной колонны (при WD=2 – 10 мм) не хуже, чем 1,1 нм при 20 000 В.

Минимальный размер получаемого элемента поверхности в пределах 15-20 нм.

Вспомогательное оборудование для литографии: 

  1. Центрифуга SM180BT;

  2. Печь лабораторная для быстрого отжига АО-500;

  3. Термостолик HP 150-250.

MJB4_Photo litography.jpg

Оптический литограф MJB-4

Ручная установка совмещения и экспонирования для контактной литографии базового уровня. Обработка пластин до 100 мм. 

Предельное разрешение не хуже 0.6 мкм при вакуумном контакте.

Система экспонирования позволяет работать на длинах волны 250, 300 и 400 нм без замены лампового блока

Bonding.jpg

Установки ультразвуковой
сварки

В лаборатории имеется две установки для сварки выводов методами  «шарик-клин» и "клин-клин". 

AFM Raman Spectra-02.jpg

Сканирующий зондовый микроскоп Ntegra Spectra с Рамановским спектрометром

Методы исследования:

конфокальная флуоресцентная/ рамановская микроскопия и спектроскопия, оптическая микроскопия, ближнепольная оптическая микроскопия, атомно-силовая микроскопия.

Высокое разрешение оптического микроскопа (0,25 мкм)

 

Исследование процессов переноса энергии, например, распространение света в нанотрубках и оптоволокне, изучение DLC пленок.

AFM MFM Aura.jpg

Сканирующий зондовый микроскоп Ntegra Aura

Позволяет проводить исследования рельефа поверхности и магнитной структуры широкого спектра материалов, в том числе и наноструктур.

 

 

Укомплектован  электромагнитами, создающие поля перпендикулярно и параллельно плоскости образца величиной до 1 кЭ.

SQUID.jpg

СКВИД магнитометр с системой EVERCOOL MPMS XL 5

Измеряемые параметры: 
DC намагниченность, AC восприимчивость, гистерезис, угловая зависимость магнитного момента, удельное электрическое сопротивление, эффект Холла, магнитосопротивление, оптическая восприимчивость. 

Магнетометр оборудован ячейкой давления.


Основные характеристики: 
Напряженность биполярного магнитного поля ±5 Тесла.
Диапазон температур 1.9 ÷400 К.
Чувствительность измерения намагниченности  10-8 э.м.е.

VSM Lakeshore 7410.JPG

Вибрационный магнитометр
LakeShore 7401 VSM

Измеряемые параметры: 
DC намагниченность, AC восприимчивость, гистерезис, угловая зависимость магнитного момента, кривые намагничивания, FORC измерения


Основные характеристики: 
Напряженность биполярного магнитного поля ± 3 Тесла.
Диапазон температур 78 ÷800 К.
Чувствительность измерения намагниченности  10-6 э.м.е.

Nanomoke 2 .jpg

Магнитооптический магнитометр Nanomoke-2

Высокочувствительный магнитометр с диаметром пятна лазера от 3 мкм. Возможность построения карт коэрцитивной силы.

Возможнссть измерения полярного и продольного эффекта Керра.

Величина магнитных полей до 5 кЭ.

MOKE Microscope Evico_Kozlov.jpg

Магнитооптический микроскоп Evico Magnetics

Возможность наблюдения доменной структуры пленок и микро- и наноструктур с использованием полярного, меридионального и экваториального эффектов Керра. Горизонтальное магнитное поле - 1 – 5 кЭ. Вертикальное магнитное поле - до 5 кЭ.

Suss Hall effect.jpg

Система для измерения спинового эффекта Холла  и магнитосопротивления наноструктур на базе зондовой станции Suss

Зондовая станция для проведения измерений магнитосопротивления и эффекта Холла с помощью техники Lock-In

Векторный анализатор цепей Agilent для исследования динамических свойств магнитных наноструктур (9 ГГц)

Servers_02_sz_edited.jpg

Высокопроизводительные вычислительные серверы

Многопроцессорный вычислительный кластер для микромагнитного моделирования в средах MagPar и OOMMF.


Микросуперкомпьютер c графическими ускорителями Tesla P100 для моделирования на MuMax3

Система хранения данных среднего уровня 5300 V3 (Huawei), 22 ТБ.

Оборудование наших партнеров во Владивостоке

  • Рентгеновский дифрактометр SmartLab Rigaku с возможностью измерения малоугловой дифракции;

  • Растровый электронный микроскоп с фокусированным ионным пучком Ga+ ZEISS CrossBeam 1540Ex, оборудованный системой дифракции электронов на отражение, квадрупольным масс-спектрометром;

  • Просвечивающий электронный микроскоп ZEISS Libra 200 FE HR, оборудованный системой фильтрации электронов по энергии, энергодисперсионным рентгеновским спектрометром;

  • Автоэмиссионный сканирующий электронный микроскоп ZEISS Ultra 55+, оборудованный энергодисперсионным спектрометром

  • Металлографический микроскоп Zeiss Observer D1m (Carl Zeiss)

  • Потенциостат-гальваностат PGU100V-1A-E (IPS )

  • Потенциостат-гальваностат PGU200V-500mA (IPS)

  • Прибор для определения толщины покрытий, устойчивости к износу, а также для определения качества адгезии покрытия к подложке

  • Термостатированная плоская электрохимическая ячейка ELFLAT-3 (BioLogic)

  • Facebook Clean Grey
  • Twitter Clean Grey
  • LinkedIn Clean Grey

© 2025 Александр Самардак

eng (1)_NG.png

690922, Россия, Приморский край,

о. Русский, п. Аякс 10,

кампус ДВФУ, Лабораторный корпус, L445

email: spinnanolab@gmail.com